預涂感光平版(又稱PS版)從50年代開始應用至今， 以其分辨率高、網點光潔、耐印力高等特點，逐步替代蛋白版、多層金屬版等版材，成為現代快速印刷的新型版材。目前，正常情況下，PS版的耐印力一般在 10萬印左 右，經過烘烤的 PS版耐印力可提高 3- 5倍，達到 30萬---50萬印，但現在有許多廠家反映 PS版耐印力不高，一般 只有2萬---3萬印，甚至才印幾千張就開始掉版。這里，本人僅就個人經驗，依照PS版生產工藝流程，對PS版耐印力進行版材生產和制版工序的粗略探討和分析。

一、版材選擇

PS版的版基是鋁。用于PS版的鋁材，屬于一般工業 級純鋁，厚度一般在0.3mm，含量為99.5%.主要雜質為 鐵和硅，其次是銅、鎂、鋅、錳、鈦等。鋁板中少量雜質 的存在，能提高純鋁的抗拉強度和硬度，減小延伸率，降 低鋁的導電性能。

二、感光劑的組成和涂布

PS版用感光劑由感光性物質、成膜性高分子樹脂、染 料、有機溶劑組成。對于單獨使用光敏劑配成感光劑涂布 的感光層，其耐堿性強，成膜性差，顯影困難;在光敏劑中加入適量的酚醛樹脂。

雖耐堿性較差，但成膜性和吸附性得以提高，兩者的配比為0.5:1或0.62:1，如果光敏劑少，成膜樹脂多，則耐堿性降低，網點易損失，殘膜率低，直接降低印版耐印力。

PS版感光劑的涂布需用專用涂布機，才能保證涂 布后的感光層厚薄均勻。涂布機一般分為單張版和卷 筒版兩類。在涂布方式上，有鋪流式、輥涂式、擠壓 式和靜電涂布式。我們不提倡使用離心式涂布。我國 常用輥涂式，為保證涂布質量，一般陰圖型感光層固 體含量為 1g/m2左右。陽圖型為 2-2.5g/m2，厚度一 般為(20±1.0)mg/dm2。當涂布產生橫向條紋等故 障時應及時排除。

三、PS版的制版

PS版制版的關鍵是最大限度地再現膠片的網點和階 調，在印版表面形成牢固的親油基礎和穩定的親水基礎。 否則，不僅浪費了時間，更嚴重的是降低了印版耐印大，浪費版材。

直接影響制版質量的一系列因素包括制版原版.PS版的網點再現性，制版設備和條件。制版工藝和操作，特別是曝光、顯影條件等。

1.曬版原版

PS版的陽圖或陰圖原版，可用傳統的照相制版、電子分色及照排等方法制成。除了階調再現曲線應有所調 整外，還必須注意原版的密度反差和網點光潔度。

由于原版的Y值過低，曝光、顯影不足或減薄過度等原因。容 易形成密度低的軟性網點或者是中間密度大，邊緣密度小的活性網點。

這兩類網點的曬版穩定性差，曝光、顯 影稍有變化，就會使印版深淺不一，從而直接影響印版耐印力。硬性網點的原版，由于密度高，網點光潔，曝 光和顯影的寬容度都較大，所以質量穩定。

因此，曬版用原版字跡圖案必須清晰且要密度大，反差大。以華光 牌YZ-600 11型膠片為例.原版最大密度應在4.0以上。 最小密度在0.05以下，反差系數在8.0以上，版面清潔 減少灰霧度和拼貼。

2.曬版光源

對于曬版光源。由于感光劑的感光是一個氧化還原反應。只有感光劑充分吸收T足夠的光能才能發生，并且它 的分解、交聯、合的程度是和所需光線強度和光照時間成正比的，因此，曬版光源的發射光譜與感光劑光敏曲線的敏感區應盡量匹配。

實驗證明，陽圖型感光刺的分光感度在300nm-460nm以內，附圖型在200nm-500nm以內。考慮到曬版原版和曬版玻璃的影響。光譜設計在350nm-460nm區域內較適宜，因此，現在曬制PS版的較理想光源為碘鎵燈。

3.曝光量

在正常的制版過程中。曝光量是影響網點變化和版面 深淺的最主要因素。我們知道，曬版曝光量=照度×曬版 時間。由于常用的PS版陽圖型屬于光分解型。因此，當曝光量超過臨界光量值，即曝光過度時，網點就會縮小，細筆劃和小網點難以再現;當曝光量小于臨界光量值，即曝光不足時。網點就會相應擴大變粗。使版面起臟，影響版面深淺。

因此，在曬版過程中，對于曝光量的控制，應采用連續調發梯尺或是布魯納爾測試條進行監控，其作用就是在顯影后檢查曝光量是否合適。一般打樣版控制在3-4級(密度為0.4-0.55)，印刷版控制在4.5-5.5級(密度為0.625-0.775)曬白不吸墨。

在曬制陽圖版時，如能將0.5%的小點子和99.5%空心點子成對曬出來，這樣的印版才算合格。